產(chǎn)品時間：2025-08-14
氮化硅陶瓷基板氣壓制備設備用途及特點：氮化硅陶瓷基板的氣壓燒結成型。(1)臥式結構，由爐體，加熱裝置，真空系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)等組成。(2)爐殼材料采用16MnR壓力容器鋼或304不銹鋼。(3)發(fā)熱體采用等靜壓石墨，保溫層采用石墨氈，碳碳深積纖維復合材料等制成。(4)配有進口高壓氣體質(zhì)量流量計，實現(xiàn)動態(tài)工藝氣氛下的穩(wěn)定燒結。
氮化硅陶瓷基板氣壓制備設備用途及特點：
氮化硅陶瓷基板的氣壓燒結成型。
(1)臥式結構，由爐體，加熱裝置，真空系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)等組成。
(2)爐殼材料采用16MnR壓力容器鋼或304不銹鋼。
(3)發(fā)熱體采用等靜壓石墨，保溫層采用石墨氈，碳碳深積纖維復合材料等制成。
(4)配有進口高壓氣體質(zhì)量流量計，實現(xiàn)動態(tài)工藝氣氛下的穩(wěn)定燒結。
(5)高壓氣氛下紅外精確控制爐溫技術，特殊的紅外吹掃結構，確保在最溫度2100℃(不超過2MPa)長期穩(wěn)定燒結。
氮化硅陶瓷基板氣壓制備設備主要規(guī)格：
設計溫度2100℃、真空Pa、裝料區(qū)尺寸有（長寬高）：400×250×250mm、500×450×450mm、1250×500×500mm、1400×600×600mm
86-021-39901930
